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1、CBTCBT曝光機概論曝光機概論Agendal製程概述l製程分類l感光劑種類l光源l對位系統lCBT曝光機l特殊設計lQ&A製程概述壓膜、曝光、顯影曝光原理曝光原理 利用紫外線(UV)的能量，使感光油墨中的光敏物質進行光化學反應，而完成影像轉移的目的。常見PCB曝光所用UV光源(如右圖) ,光源波長365nm 製程分類l內層l外層l防焊感光劑種類l乾膜 l濕膜光源l平行光l非平行光E2100-5KAC (平行光)光路圖上曲鏡下曲鏡下框架下玻璃框下框架上玻璃框上框架鏡碗燈管冷光鏡反射鏡聚焦鏡平行光行走路線1.燈管燈管：點亮後產生5KW之光線，用以曝光之用，燈管之材質為石英玻璃，內部以高壓充填鈍性
2、氣體與水銀，使用高壓放電方式將鈍性氣體與水銀離子化，以點亮燈管。2.鏡碗鏡碗：將燈管所產生之光線，反射後聚集於冷光鏡上，鏡碗之材質為鋁合金，內部為反射光線之鏡面。3.冷光鏡冷光鏡：將鏡碗所聚集之光線，濾除其他光線後，僅反射UV光線於聚焦鏡上，冷光鏡之材質為耐熱玻璃，上面鍍以特殊塗層以反射UV光。4.聚焦鏡聚焦鏡：將冷光鏡所反射之UV光線聚焦與整理後，UV光穿透聚焦鏡射於曲鏡上，聚焦鏡為多點聚焦，藉以整理所射入之UV散射光。5.平面反射鏡平面反射鏡：關閉時，將聚焦鏡所射入之光線，反射到下曲鏡反射面。6.曲鏡曲鏡：將聚焦鏡所射入之光線，平均反射於曝光玻璃之上，上面之曲度可以確實的將射入之光線由小面
3、積之平行光線，轉換成為大面積之平行光線。7.光學玻璃光學玻璃：為PCB與底片之載體，為無色透明之光學玻璃，使用真空方式固定PCB與底片，安裝於上下框架之玻璃框，一組框架共使用兩塊玻璃，機台分為上下框架，可以提昇機台之產速。非平行光金屬鹵素燈金屬鹵素燈金屬鹵素燈的光譜能量金屬鹵素燈的光譜能量與某些質材的吸收光譜與某些質材的吸收光譜十分吻合，能起十分快十分吻合，能起十分快速的硬化反應，能廣泛速的硬化反應，能廣泛地應用於菲林、絲網、地應用於菲林、絲網、PCBPCB、重氮薄膜及板曝、重氮薄膜及板曝光；此外，金屬鹵素燈光；此外，金屬鹵素燈還能應用於不同的印刷還能應用於不同的印刷和表面塗佈工業。和表面塗佈
4、工業。對位系統l獨立CCD對位l影像檢查E2100-5KAC外層曝光機自動對位原理CBTCBT外層曝光機是利用上下玻璃框精密對位件達到重覆對位之效果控外層曝光機是利用上下玻璃框精密對位件達到重覆對位之效果控制其上下底片之精度在制其上下底片之精度在 12.5m12.5m內內前對位件前對位件右對位推桿右對位推桿左對位推桿左對位推桿後對位件後對位件同時利用同時利用CCDCCD攝相機讀取上攝相機讀取上/ /下底片靶標與下底片靶標與PCBPCB靶標相對讀值確定上靶標相對讀值確定上/ /下底片與下底片與PCBPCB靶標在要求誤差值內始開始進入曝光作業如未在要求誤差值內則拒曝靶標在要求誤差值內始開始進入曝光
5、作業如未在要求誤差值內則拒曝左側左側CCDCCD右側右側CCDCCD外層對位防焊對位影像檢查內層對位CBT曝光機(一)CBT曝光機(二)CBT曝光機(三)CBTCBT曝光機設備總表曝光機設備總表製程感光劑光源CCD對位系統備註手動E2002-5KMC內層乾平2下影像檢查E2002-10KMD防焊濕非2下影像檢查半自動單燈雙框雙面E2100-5KMC內層乾平2/4下影像檢查E2100-5KAC外層乾平4下CCD對位雙燈雙框雙面E2100-7KMD內層濕非2/4下影像檢查單燈雙框單面CBT-810防焊濕非4上CCD對位CBT-810C防焊濕平4上CCD對位CBT-805F外層乾平4上CCD對位HD
6、I;軟板CBT-810F防焊濕非4上CCD對位HDI;軟板單燈單框單面CBT-910防焊濕非4上CCD對位CBT-910C防焊濕平4上CCD對位CBT-910分割防焊濕非4上CCD對位全自動雙燈雙框雙面CBT-6907內層濕非2/4下影像檢查CBT-6905內層乾平2/4下影像檢查單燈單面(翻面)CBT-6810防焊濕非4上CCD對位CBT-6805外層乾平4上CCD對位5K 5K 平行光平行光 乾膜乾膜C=collimate C=collimate 平行光平行光4 4分割分割特殊設計l膨脹PINl溫濕度控制lUV防漏光裝置l獨立CCD Cameral快速開框l安全光閘保護系統Q & A有問題嗎有問題嗎?請問後面報告的請問後面報告的!
