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1、第七讲含硅矿物与信息材料一、选择题1.下列对晶体硅的有关叙述正确的是（）A.晶体硅和金刚石的物理性质相似B.硅在地壳中的含量居第一位C.晶体硅具有优异的导电性D.晶体硅常用于制光导纤维2 .制备普通玻璃不需要的原料是（）A.Na2CO3B.CaCO3C.Na2SiO3D.SiO23 .下列物质中不能通过化合反应制得的是（）A.SiO2B.NaHCO3C.H2SiO3D.SiF14 .下列材料只含有硅元素的是（）A.水泥B.晶体硅C.沙子D.普通陶瓷5 .下列反应不能通过一步反应得到的是（）A.Na2C03-NaHC03B.SiO2-SiO3C.Fe（OH）2-*Fe（OH）3D.SiO2-Si
2、6.下列有关生活中化学的叙述中，正确的是（）A.只用米汤就能检验出食盐中是否加碘B.可用热的纯碱溶液清洗油污C.“白色垃圾”的形成与二氧化硫有关D用SiOz制芯片7 .下列物品中，都用到硅单质的是（）陶瓷硅太阳能电池玛瑙计算机芯片光导纤维A.B.C.D.8 .下列各种应用中,利用了硅元素的还原性的是（）A.用硅制造集成电路、晶体管等半导体器件8 .在野外,用硅、石灰、烧碱的混合物制取氢气:Si+Ca（OH）2+2Na0H-Na2SiO3+CaO+2C.用HF刻蚀玻璃：Si（+4HF-SiR+20D.单质硅的制备:Si2+2CffiSi+2COt9 .石英的主要化学成分是（）A.Na2SiO3B
3、.Al2O3C.SiO2D.Si10.硅是带来人类文明的重要元素之一,它伴随着人类历史发展的脚步,在从传统材料到信息材料的发展过程中创造了一个又一个奇迹。下列有关硅及其化合物的说法正确的是（）A.自然界中存在硅晶体,它是电子工业中重要的半导体材料B.砖瓦、水泥、石英都是硅酸盐产品C.制造普通玻璃的主要原料是黏土和石灰石D.二氧化硅可制成光导纤维,也可制成光学镜片11 .青花瓷中所描绘的“瓶身描绘的牡丹一如你初妆”“色白花青的锦鲤跃然于碗底”等图案让人赏心悦目，但古瓷中所用颜料成分一直是个谜,现在科学家已得知蓝紫色通常用硅酸铜钢（BaCUSi2,铜为+2价），下列关于硅酸铜钢的说法不正确的是（）
4、A.是硅酸盐B.性质稳定,不易脱色C.易溶解于强酸和强碱D.X等于612 .反应SiCl4+2H2SSi（纯）+4HCl可用于工业上制取纯硅。该反应属于（）A.置换反应B.复分解反应C.化合反应D.分解反应13 .将过量的CO?分别通入:CaCk溶液Na2SiO3溶液Ca（ClO）2溶液饱和Na2CO3溶液,最终有沉淀生成的是（）A.B.C.D.14 ,熔融烧碱应选用的器皿是（）A.石英生烟B.普通玻璃用烟C.生铁用烟D.陶瓷用烟15 .将足量（A气体通入水玻璃（NazSW溶液）中,然后加热蒸干,再在高温下充分灼烧,最后得到的固体物质是（）A.Na2SiO3B.Na2CO3Na2SiO3C.N
5、a2CO3SiO2D.SiO216 .环境友好助洗剂一一4A沸石可代替会对水体造成营养化等环境问题的助洗剂聚磷酸钠（STTP）,4A沸石是一种水合硅铝酸盐,化学式为Na12Al2（SiO2）l2270oamol4A沸石与2molL1的盐酸恰好完全反应时,消耗盐酸的体积为（）A.18aLB.42aLC.96aLD.144aL17 .下列关于Si。?和CO?的说法中正确的是（）A. C02SiO2都能与碱及碱性氧化物反应B. CO?和SiOz与水反应分别生成相应的酸C.二氧化硅可用来制作干燥剂，因二氧化硅可与水反应D.CO?和SiOz都是由相应的分子构成的18 .证明生石灰中既混有石英,又混有石灰
6、石的正确方法是（）A.加入过量的盐酸,观察是否有气泡冒出B.加入过量的烧碱溶液,观察是否有固体溶解C.加热至高温,观察是否有气泡冒此是否有硅酸钙生成D.先加过量的盐酸搅拌,观察是否有不溶物剩余及气泡出现;若有不溶物则滤出，投入氢氧化钠溶液中看其是否溶解19 .下列离子方程式不正确的是（）A.石英与烧碱反应:Si（V20H-Sioj+fWB.硅与烧碱反应:Si+20E+H20-Si2H2tC.向小苏打溶液中加入过量的石灰水:2Heo3+Ca+2H-CaCOsI+2H20+CoD.往水玻璃中加入盐酸:2H+Sio；_H2Si03I20 .下列有关说法中正确的是（）A.硅是非金属元素,与任何酸都不发
7、生反应B.SiOz溶于水生成硅酸,其水溶液显酸性C.硅的性质很稳定,但在自然界中不存在游离态D.二氧化硅是酸性氧化物,可以与碱反应,但是不能与酸反应21 .根据水泥和玻璃的生产,总结出硅酸盐工业的一般特点是（）生成物是硅酸盐反应条件是高温由含硅的物质作原料反应原理是一系列复杂的物理、化学变化A.仅B.仅C.仅D.22 .下列试剂中，不能贮存在玻璃瓶中的是（）A.浓硫酸B.浓硝酸C.浓氢氧化钠溶液D.硝酸银溶液二、填空题23 .如何除去下列各粉末状混合物中的杂质（括号内为杂质），请选用下面提供的试剂和操作,将标号填在表内。试剂:A.盐酸,B.烧碱溶液,C.氧气,D.水,E.C02,F.不用其他试
8、剂。操作:加热,加热熔融,过滤,结晶。含杂质的物质所加试剂主要操作(I)Na2CO3(NaHCO3)(2)SiO2(CaCO3)(三)SiO2(Si)(4)NaCl(SiO2)24 .在下列物质的转化关系中,A是一种固体单质，且常作半导体材料,E是一种白色沉淀,F是最轻的气体单质。据此填写：(I)B的化学式是,目前在现代通信方面B已被用作的主要原料。B和a溶液反应的离子方程式是O(3) A和a溶液反应的离子方程式是O(4) C和过量盐酸反应的离子方程式是o25.硅在地壳中的含量较高,硅及其化合物的开发由来已久,在现代生活中有广泛应用。回答下列问题：陶瓷、水泥和玻璃是常用的传统的无机非金属材料,
9、其中生产普通玻璃的主要原料有O高纯硅是现代信息、半导体和光伏发电等产业都需要的基础材料。工业上提纯硅有多种路线,其中一种工艺流程示意图及主要反应如图：HClH2|ffiISiHCl,高纯硅电弧炉流化床反应器还原炉(16001800T)(25O3OOX)(11001200工业上用石英砂和焦炭在电弧炉中高温加热到1600l800除生成粗硅外,也可以生产碳化硅,则在电弧炉内可能发生的反应的化学方程式为o在流化床反应的产物中，SiHCL大约占85%,还有SiCL、SiH2Cl2.SiH3Cl等,粗硅生成SiHCl3的化学反应方程式为o还原炉中发生的化学反应为O(4)氯碱工业可为上述工艺生产提供部分原料,这些原料是。
